تمرکز معاونت علمی و فناوری ریاست‌جمهوری در سال ۱۴۰۴ بر کوانتوم، فوتونیک و هوش مصنوعی خواهد بود احتمال قطعی گسترده خطوط مخابرات و اینترنت در تابستان امسال (۱۴۰۴) سازمان فضایی ایران کپسول زیستی حمل انسان به فضا را امسال آزمایش می‌کند زمان انتشار آپدیت One UI ۷ برای گوشی‌های سامسونگ + فهرست نتیجه پژوهشی جدید: مصرف ماریجوانا بر فعالیت مغز و حافظه تأثیر می‌گذارد کاهش مصرف اینترنت کشور در زمان پخش سریال «پایتخت»! + عکس معنای «گوگل» افشا شد| تاریخ سازی یک اشتباه تایپی گوشی هوشمند، سومین کالای عمده وارداتی در سال ۱۴۰۳ بوده است آیا طراحی آیفون ۱۷ پرو متفاوت از نسل قبل خواهد بود؟ هوش مصنوعی واتساپ و اینستاگرام معرفی شد | Llama ۴، قوی‌تر از مدل‌های گوگل و OpenAI درباره گوشی جدید اینفینیکس که در هوا عطر پخش می‌کند + مشخصات و قیمت همه‌چیز درباره Corleo، ربات چهارپای کاوازاکی که می‌توانید سوارش شوید + فیلم راهنمای افزایش سرعت اینترنت رایتل 4g نتایج تحقیقات جدید: افراد متأهل بیشتر از مجردان به زوال عقل مبتلا می‌شوند دانشمندان می‌گویند ممکن است ما در کره ماه زندگی میکروبی به جا گذاشته باشیم ساعت‌های ۱۴ میلیارد تومانی ژژه لکولتر با مینیاتورهای شاهنامه + عکس ترامپ اجرای قانون ممنوعیت فعالیت تیک‌تاک را ۷۵ روز دیگر عقب انداخت قابلیت Copilot Vision مایکروسافت به ویندوز و موبایل می‌آید + قابلیت‌ها آیا تراشه‌های الکترونیکی هم شامل تعرفه‌های سنگین ترامپ می‌شوند؟ هوش مصنوعی Runway Gen-4 رونمایی شد | تولید پیشرفته ویدئو + فیلم افزایش قابل‌‌توجه زباله‌های فضایی در سال ۲۰۲۴
سرخط خبرها

کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

  • کد خبر: ۱۷۷۷۲
  • ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۱۲:۳۷
کمک به کاهش تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD
یک شرکت فنلاندی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده است که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.
به گزارش شهرآرانیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک ارایه کرده است که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

در روش‌های فعلی برای پوشش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند. از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند، با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم تمیز شود، این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلورید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند،  میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است،  از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

با استفاده از فناوری نانولمینیت ALD شرکت پیکوسان می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد، از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه شرکت پیکوسان فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام گروه پیکوسان گفت: ما در پیکوسان می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم، مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند، با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

منبع: ایرنا

 

 
گزارش خطا
ارسال نظرات
دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تائید توسط شهرآرانیوز در سایت منتشر خواهد شد.
نظراتی که حاوی توهین و افترا باشد منتشر نخواهد شد.
پربازدید
{*Start Google Analytics Code*} <-- End Google Analytics Code -->